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IBM搶先發表的2nm Nanosheet 製程: 台積電真的被超車了嗎

半導體產業討論區(元件物理與製程、IC Design 與EDA) | # IBM搶先發表的2nm ... 在2007 年的45nm，Intel 首次量產了High-K Metal Gate 以提升閘極厚度，減少閘極漏 ...

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