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IBM展示32纳米High-K制程性能比45纳米提升35% - 国防科技 ...

据该联盟表示，其32nm制程High-K金属栅极技术与45nm制程相比，能够在相同的电压下将性能提高35%，同时能降低30%~50%的功耗。此外根据测试结果，该技术应用 ...

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