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联芯集成电路28纳米HKMG制程成功试产良率达98% - USCXM

联芯28纳米High-K/Metal Gate 工艺制程采用目前全球最先进的Gate Last制程技术，该技术广泛支持各种组件选项，以提升弹性及符合效能需求，可应用于更多样 ...

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