你即將離開本站

並前往https://www.google.com/patents/CN1540769A?cl=zh

一种高介电常数材料栅结构及其制备工艺 - Google

因此，本发明采用氮氧化硅(SiON)材料来作为high-k材料与衬底硅之间的缓冲层，它直接自衬底硅生长而来，因此与硅衬底有非常好的界面特性，而且此材料又非常致密，已被证明为 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「high k材料」的人也找了：

  1. high k材料好處
    2.
  2. high k low k材料
    3.
  3. High k
    4.
  4. high k材料有哪些
    5.
  5. 高介電常數材料
    6.
  6. high k metal gate優點
    7.
  7. High-k dielectric
    8.
  8. High K Low K
    9.