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用于45nm及以下集成电路工艺的高介电常数绝缘栅材料

高电介质常数介质膜被业界认为是开发45nm以下硅集成电路芯片技术的关键. 业界普遍认为利用high K绝缘层技术的MOS器件是20世纪60年代MOS晶体管出现以来，晶体管技术发生的 ...

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