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レジストプロセスの基本 - TTI ARIM JAPAN - 豊田工業大学

UV 光の波長が単一かつコリメート光である仮定. の下に，全幅 3μm の開口を ... 波長 λ は 400nm，媒 ... Overall patterning result of 1.67μm-pitch line and space.

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