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IC光阻市場及技術發展趨勢

微影製程中，由於單色光比泛波長. (Broad Band)較能得到好的光學解析，最. 早被拿來作為單色光曝光源者為g-line. (436nm)及i-line(365nm) ，它們的實用解. 析為0.8微米及 ...

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