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扇出型封裝面臨哪些光刻技術的挑戰？ - 尋夢科技

相反，他們使用的光刻機波長更長，如436nm（g-line）、405nm（h-line）和365nm（i-line）三種波長。 在封裝過程中，一些步進式曝光機僅具備i-line波長，而 ...

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