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極度依賴進口的半導體設備（萬字深度報告）

光刻機由光源波長進行區分可以分為可見光（g-line），紫外光（i-line），深紫外光（KrF、ArF）以及極紫外（EUV）幾大類，當前最先進的3nm製程只能 ...

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