目前SiNx: H 薄. 膜是最常應用來做為矽材料表面的抗反射薄膜,SiNx 薄膜的折射率(R.I)介. 於1.9 至3.3 之間,[17,18]是最合適應用於可見光進行在1.0 的空氣與3.8. 的矽材料 ...
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