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光阻剂| Envure DV™ | SACHEM, Inc.

Selete 研发项目评估了极端远紫外(EUV) 光刻工艺用于制造半导体设备的可行性。 ... hp-2x-nm Devices Using EUV Lithography (Kentaro Matsunaga et al., Selete 2010).

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