中芯国际的N+1制程用的是DUV浸润式光刻,目前还只能用DUV去做N+1和N+2的制程,因为EUV被限制迟迟交付不了,7nm阶段DUV还可以用,但是当制程演进到5nm和3nm的时候,就 ...
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