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頭條揭密》美日開發無EUV光刻機技術ASML將更依賴中國市場

美國對中國晶片技術限制是近幾年來半導體科技界最受關注的問題，晶片技術禁令涉及層面廣泛，其中最具代表性的就是14nm以上先進工藝與用於生產7nm以上 ...

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