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半導體器件用光掩模| TOPPAN PHOTOMASK

二元掩模（Binary Masks）是僅透過單純的遮光膜圖案形成的掩模。 ... 採用比以往的DUV光（ArF：193nm）更短波長的EUV光（13.56nm），可實現更加精細圖案的曝光。

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