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極紫外光微影—延續摩爾定律的重要技術

目前，領先的積體電路製造商所採用的光學投影式微影技術(OPL)，使用DUV波段的曝光 ... 第一代量產型EUV機台的曝光波長為13.5 nm，NA在0.25～0.35之間，採用6個鏡面投影 ...

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