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為何費半轉弱？一文讀懂ASML法說、EUV

DUV （深紫外光刻機）和EUV（極紫外光光刻機）是兩種不同的光刻機技術，後者EUV更為高階、精密。 光刻機的基本原理是利用光源將圖案從掩模上投射到矽晶圓上 ...

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