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財華洞察|轉機！獲簽阿斯麥光刻機的中芯國際正穿越低谷？

根據市場公開數據，ASML銷售的光刻機主要有DUV（深紫外線）和EUV（極深 ... 刻板不同層差異實現尺寸縮減），尺寸大可以大幅縮減至14nm，甚至是7nm。

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