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Centura® Tetra™ EUV 先進光罩蝕刻系統

當採用13.5nm 波長的極紫外光微影技術時，所有的光罩材料都是不透光的，因此具複合多層薄膜的光罩，功用如同反射鏡，可將電路圖案反射到晶圓上。這種多層膜EUV 光罩在臨界 ...

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