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半導體產業爭霸賽的關鍵仍在光學技術 - PIDA

光線的波長決定了焦點的尺寸（數值孔徑），也就決定了電路的線距。現今半導體製程往7奈米以下邁進，便需要13.5 nm 極紫外（EUV）波長的光刻設備，用更短的波長製作更 ...

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