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在euv反射镜上制造由氧化硅构成的覆盖层的方法 - Google

所用成像光的波长越小，可借助投射光学单元成像的结构越小。在所谓的EUV光刻设备中，现在主要使用具有193nm波长的成像光或具有在极紫外(EUV)范围内(即5nm至30nm)的波长的 ...

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