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世界首項近紅外光曝光技術，可望應用於次世代顯示器相關用途

使用於微影曝光的光源有i－line(波長365 nm)、KrF(波長248 nm)、ArF(波長193 nm)等紫外光，波長越短，越能提高解析度，因此先進半導體利用EUV(波長13.5 nm) ...

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