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EUV光阻劑Inpria公司專利佈局分析

EUV 光源具有高能量及短波長的特性，可藉由縮小微影製程的線寬以縮小元件的尺寸。EUV 曝光機這個名詞最早出現於90 年代末期，但直到2010 年才由ASML 公司推出第一台EUV曝光 ...

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