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「AET原創」EUV是7nm節點之後的必然趨勢 - 數位感

晶片行業從20世紀90年代開始就考慮使用13.5nm的EUV光刻（紫外線波長範圍是10~400nm）用以取代現在的193nm。 EUV本身也有局限，比如容易被空氣和鏡片材料吸收、生成高 ...

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