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科林研發揭示EUV微影的技術突破 - 美通社

今天發表了一種用於極紫外線(EUV) 曝光的乾式光阻(dry resist) 技術。 ... 與ASML 和imec 合作開發的新型乾式光阻技術可擴展EUV 微影的解析度、生產力 ...

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