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JSR、東洋合成等公司紛紛投入EUV光阻劑：材料世界網 - 藥師+

當半導體進入10奈米製程時，開始採用極紫外線(EUV-Extreme Ultraviolet)曝光，為了彌補專用曝光機的功能不足，轉由光阻劑下功夫，EUV用光阻劑 .

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