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光源 - 政府研究資訊系統GRB

相對於電子書寫技術，EUVL可延續傳統光學微影的方法以光罩曝光進行晶片量產，因此. 2. 極紫外光(EUV)微影技術從光源建造、光罩、材料、製程到奈米元件可靠度研究(III).

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