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新一代製程的關鍵：13.5奈米的「極端」紫外光

透過這樣的過程，我們能將光罩上的電路圖形轉印到半導體材料上，製成積體 ... 錫金屬受雷射照射產生的電漿會放出13.5奈米的EUV，也算是半導體製程的 ...

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