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三巨头决战EUV光刻胶 - 格隆汇

最简单的光刻形式将称为使用湿光刻胶（wet photoresist）的单一图案化。清洗后的晶圆被放入东京电子涂布机和显影剂中。该工具在硅片顶部沉积化学放大抗蚀 ...

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