你即將離開本站

並前往https://technews.tw/2021/02/15/euv-mass-production-of-lithography-technology/

挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程

雖然數值孔徑都是0.25，NXE：3100 的鏡頭比起ADT 來有很大的進步，我們看到它已經可以在晶片上曝出10 奈米世代需要的圖案！ 再者，ASML 的下一代機型NXE： ...

確定！ 回上一頁

查詢 「euv光刻機原理」的人也找了：

  1. 光刻機asml
    2.
  2. euv光刻機中國
    3.
  3. euv光刻機概念股
    4.
  4. euv光刻機英文
    5.
  5. asml euv光刻機價格
    6.
  6. 光刻機是什麼
    7.
  7. 中國光刻機
    8.
  8. duv光刻機
    9.