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選擇適當表面分析儀器抓出製程汙染缺陷 - Digitimes

宜特發現，在尋找製程汙染缺陷上，建議選擇原子力顯微鏡(AFM)，其原理是靠 ... 大於10um汙染物，建議使用X光電子能譜儀(XPS/ESCA)的儀器進行成分與半 ...

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