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光刻膠邊緣修復 - 中文百科知識

化學方法（Chemical EBR），軟烘後，用PGMEA或EGMEA去邊溶劑，噴出少量在正反邊緣處，並 ... 光學方法（Opitcal EBR），即矽片邊緣曝光（Wafer Edge Exposure,WEE）。

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