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第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏

是藉著主氣流(Main Stream )與晶片表面間的濃度差，以擴散(Diffusion)的方式，由. 主氣流經過介面層，到達晶片的表面。 ... 3-1 實驗設備ASM Eagle-10 PECVD Equipment.

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