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用於次25 奈米極紫外光曝光機之新穎反射型衰減式相位移光罩

相位移光罩(phase-shifting-mask) 是目前一種極為重要的解析度增益技術，它將被應用於未來 ... 光學微影技術有很大的不同。 ... 在深紫外光(DUV) 微影術中，高穿率透衰.

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