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duv浸潤式
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ASML可用于制造7nm、5nm芯片DUV光刻机将实施出口管制
但ASML也表示,此次并不适用于所有浸润式DUV设备,只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统(DUV),即TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。
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