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duv原理
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半導體器件用光掩模 - 凸版印刷
EUV掩膜(EUV mask)是作為最可期待的新一代光刻技術而開發的技術。採用比以往的DUV光(ArF:193nm)更短波長的EUV光(13.56nm),可實現更加精細圖案的曝光。
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