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duv原理
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新一代製程的關鍵:13.5奈米的「極端」紫外光
半導體製程的原理是「差異蝕刻」:半導體基板上被光照射的區域會發生化學變化,使其 ... DUV)」跳到10奈米左右的「極端紫外光(Extreme UV, EUV)」。
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