你即將離開本站

並前往https://www.eet-china.com/news/14169.html

ArF是什么光刻机，为什么格科微能成功引进？ - 电子工程专辑

深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm；. 极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm. 光刻机对光源系统的要求是：. 1.适当的波长。

確定！ 回上一頁

查詢 「duv光源」的人也找了：

  1. euv duv差異
    2.
  2. duv介紹
    3.
  3. duv製程
    4.
  4. euv duv波長
    5.
  5. 深紫外光duv
    6.
  6. duv浸潤式
    7.
  7. EUV DUV
    8.
  8. euv duv是什麼
    9.