你即將離開本站

並前往https://www.photomask.co.jp/tc/photo_mask/lineup/

半導體器件用光掩模| TOPPAN PHOTOMASK

移相掩模（Phase-Shifting Mask：PSM）指透過控制光的相位及透過率，改善對晶圓曝光 ... 採用比以往的DUV光（ArF：193nm）更短波長的EUV光（13.56nm），可實現更加精細 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「duv光源」的人也找了：

  1. euv duv差異
    2.
  2. duv介紹
    3.
  3. duv製程
    4.
  4. euv duv波長
    5.
  5. 深紫外光duv
    6.
  6. duv浸潤式
    7.
  7. EUV DUV
    8.
  8. euv duv是什麼
    9.