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EUV光刻，最終勝出！

EUV技術最明顯的特點是曝光波長一下子降到13.5nm，用13.5nm波長的EUV取代193nm的DUV光源，在光刻精密圖案方面更具優勢，能夠減少工藝步驟，提升良率，也能大幅提升光刻機的 ...

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