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TrendForce：烏俄衝突影響半導體氣體供應晶片生產成本恐上漲

惰性氣體主要應用於半導體微影製程，該製程線寬需進一步微縮至220nm以下時，即開始進入DUV（深紫外光）光源準分子雷射世代，以惰性混合氣體與鹵素分子 ...

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