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中芯國際(00981)：向7nm的追趕之路上DUV是解決之道嗎？

僅5nm節點上才充分利用EUV光刻工藝，達到14層EUV光罩。 ASML所展示的浸潤式DUV光刻機，即使能夠突破7nm門檻，也需要經過多重曝光，將會大大提高成本。

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