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中國EUV 封鎖有解？ASML 推7 奈米製程DUV

上週在中國國際進口博覽會現場，半導體設備巨頭ASML 展出可用於7 奈米以上先進製程的深紫外曝光機DUV。 此文章為會員限定，登入即可閱讀全文.

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