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dram製程步驟
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https://ethesys.lis.nsysu.edu.tw/ETD-db/ETD-search/getfile?URN=etd-0701114-103002&filename=etd-0701114-103002.pdf
一新式垂直奈米柱架構應用於雙閘極單電晶體動態隨機存取記憶體
在此論文中,我們. 設計了垂直奈米柱的雙閘極1T-DRAM,並以撞擊游離和閘極引致汲極漏電流方. 式做為操作機制,利用製程步驟所設計的垂直奈米柱,大大地增加了電洞所能儲.
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