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國立高雄科技大學半導體工程系

本實驗室具備尖端原子層沉積技術(atomic layer deposition, ALD)，可製備超薄(< 5 nm)高介電常數氧化層膜，可有效滿足現今尖端元件的需求。 實驗室全景. 研究領域.

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