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TWI505431B - 半導體裝置及積體電路之製作方法 - Google ...

第2a~2c圖繪示了製作多層金屬層之半導體裝置後段製程之方法的一實施例。 ... 及氧作為前驅物之化學氣相沉積(chemical vapor deposition，CVD)技術。

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