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CN101955733A - 研磨液配制方法、研磨液以及金属钨的cmp方法

现有技术中，金属钨CMP的研磨液的主要成分是水，其次是以氧化剂，以及硅胶或氧化铝(Al2O3)作为精细研磨颗粒。较为常用的氧化剂为过氧化氢(H2O2)。在CMP过程中，过氧化氢与 ...

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