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cmp slurry研磨液成分
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http://ir.lib.ncku.edu.tw/handle/987654321/215780
國立成功大學機構典藏:Item 987654321/215780 - NCKU
本論文研究的主要目的為探討在銅化學機械研磨製程中,設計銅矽基板與阻障層模型進行模擬,並使用二氧化矽磨粒與銅金屬導線置於不同研磨液成分的條件下,搭配 ...
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