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客製化CMP方案助攻28奈米製程良率大躍升 - 新電子
化學機械研磨墊(CMP)將大幅提升先進製程良率。隨著半導體製程技術節點持續進化至28、20奈米(nm),晶圓製造業者對於研磨墊的缺陷率、移除率等要求亦 ...
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