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CMP拋光液 - 捷斯奧

WEC CMP-A1拋光液包含奈米級SiO2磨料，擁有優良的物理和化學性質，適用於多種材料奈米級的高平坦化拋光，pH介於9~10，能快速移除物料表面因前制程精磨所留下的淺劃痕。

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