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貫徹材料安全與製程節能目標半導體開創產業永續發展

他指出，自1990年代中期開始，Oxide Slurry研磨就一直是半導體製造CMP製程中的重要步驟。對一間量產的半導體晶圓廠來說，每年會消耗高達150萬公升 ...

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